1. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (أردبیل)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
2. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films-- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry-- Industrial applications
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
3. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
4. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
5. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
کتابخانه: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه صنعتي خواجه نصير الدين طوسى (طهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005
6. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, Michael A.
کتابخانه: (طهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9L53
2005
